低温多晶硅(LTPS)显示技术
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低温多晶硅(LTPS)显示技术
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低温多晶硅(LTPS)显示技术 低温多晶硅(LTPS)显示技术
LTPS是新一代薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的制造工艺,与传统的非晶硅显示器最大差异在于LTPS反应速度较快,且有高亮度、高清晰度等特点。本书共分三部分,第1部分介绍了LTPS结构,第2部分介绍低温多晶硅技术开发与现状,第3部分介绍新一代显示技术开发。 [ 查看完整的图书目录 ] [马上试读]

第1章绪论——低温多晶硅的时代1 11概述1 12平面显示器的分类1 13低温多晶硅开发历史3 14低温多晶硅的优势5 141高清晰度与高开口率6 142电磁干扰8 143周边驱动IC9 144低功率消耗12 145窄框化与高集成度13 第2章低温多晶硅特性与结构17 21概述17 22LTPS薄膜晶体管的特性17 221特性曲线18 222等效载流子迁移率19 223阈值电压20 224亚阈值摆幅21 225漏电流22 23低温多晶硅像素的结构24 231八次光刻的倒栅工艺流程28 232九次光刻的顶栅工艺流程30 233五次光刻的顶栅工艺流程32 234内建电路架构34 第3章低温多晶硅的可靠性37 31概述37 32LTPS器件可靠性37 321热载流子效应38 322动态可靠性测试39 323短沟道效应39 324窄沟道效应41 325驼峰效应43 326扭曲效应44 327自发热效应46 328低频噪声特性48 329辐射效应50 33LTPS阵列可靠性51 331静电泄放伤害51 332环境与工艺过程中的ESD防护53 333阵列与内建电路的防护54 34阵列测试57 341接触式测试57 342非接触式测试59 343阵列修补6...

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